著录信息
- 专利名称:一种中压紫外系统清洗装置及其清洗头
- 专利类型:实用新型
- 申请号:CN201720491445.3
- 公开(公告)号:CN206701867U
- 申请日:20170505
- 公开(公告)日:20171205
- 申请人:北京安力斯环境科技股份有限公司
- 发明人:蔡晓涌,李浩,杨小强,钟静
- 申请人地址:100085 北京市海淀区上地信息路11号一层103室
- 申请人区域代码:CN110108
- 专利权人:北京安力斯环境科技股份有限公司
- 洛迦诺分类:无
- IPC:B08B9/023
- 优先权:无
- 专利代理机构:北京东正专利代理事务所(普通合伙) 11312
- 代理人:李梦福
- 审查员:无
- 国际申请:无
- 国际公开(公告):无
- 进入国家日期:无
- 分案申请:无
关键词
清洗头,溶液腔,刮擦,内壁,密封,本实用新型,聚四氟乙烯,清洗效果,清洗装置,紫外灯管,紫外系统,灯管,导向环,结垢,卡死,内开,套置,通孔,外凸,中压,清洗
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